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1977,趕山打獵娶女知青_第1364章 膜厚控制(1)

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八月三號,鵬城,實驗樓三層。

錢院士帶了十二個人,關在機房裡,三天沒出來。

手冊拆開之後,問題比想象的多。蔡司的鍍工藝用的是磁控濺加離子束輔助沉積,兩套系統配合,度要求到了亞納米級別。

錢院士的助手小周拿着打印出來的參數表,站在設備前,對了半天。

“錢老,咱們這台濺設備,靶材轉速最高到三千轉,手冊上要求四千五。”

錢院士走過來,看了一眼參數。

厚控制呢?”

小周翻到第三頁:“手冊要求單層厚度誤差不超過零點零二納米。咱們這台設備最好做到零點零八,差四倍。”

錢院士把參數表放下,摘了老花鏡。

設備不夠——這是傷。

他打給張紅旗。

“紅旗,設備度不夠。手冊里的工藝,咱們現有的機跑不了。”

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