思路很簡單：設備件做不到零點零二納米的度，就在每一層鍍的過程中用傳實時採集數據，反饋到算法里，算法即時修正下一步的沉積參數。

等於讓一個手抖的人，靠一套自修正系統，畫出一條直線。

八月九號，凌晨兩點，補償參數跑出來了。

小周把參數灌進設備控制系統，重啟。

濺設備嗡嗡響了起來。

錢院士站在無塵室的觀察窗外，看着裡面。

第一層鉬，沉積開始。

傳採集，數據回傳，算法修正。第二層硅，沉積，採集，修正。

一層鉬，一層硅，替沉積。

EUV反鏡面需要四十對鉬硅多層——八十層，每層厚度不到七納米。

八月十號，下午三點，八十層鍍完。

小周從無塵室里出來，手裡端着一塊圓形基片，直徑十五厘米，表面泛着金屬澤。

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