第1464章

“秦總，有這筆錢就足夠了，一年之，我們就能搞出193納米的ARF刻機，如果使用多重曝技，這種刻機可以一直用到90納米，但是，在下一代65納米的工藝節點上，這種刻機就被限制住了。”

大部分人都知道,製造芯片會被刻機卡脖子，但是究竟怎麼卡脖子，並不是很清楚。

製造芯片，本質上就是在硅片上刻蝕電路，經過多年發展,刻法已經徹底了，這就和照相機一樣，在硅片上抹一層刻膠，然後用刻機把對應的刻膠燒掉，就像是照相機底片一樣，從而把電路圖做出來。

沒錯，刻機只是像是複印機一樣，把電路圖複製在硅片上,接下來還會有刻蝕機，據刻出來的電路圖，在硅片上用化學手段做出MOS管來，從而做出一個個電路。

刻是最重要的一步，刻機的技進步,也會推芯片製造工藝的進步。

而刻機之中，源的波長很重要。

早些年使用的是紫外源，從波長436納米的g線到波長365納米的i線，發展到了深紫外源，也就是波長248納米的KrF和波長193納米的ArF，到這裡，技止步了！

“目前193納米的源，使用多次曝技，可以把工藝推進到90納米，幾乎所有人都認為，193納米的刻機，是無法延到65納米技節點的，如果繼續改進製程，那就需要在源上做手腳。”

別看徐教授這幾年在造盤，但是，他從來就沒有離開過自己真正喜的刻機！一直都在關注刻機技的進步！

己方現在可以造ArF源的刻機，接下來的技路線怎麼解決？