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我的一九八五_第一六六七章 浸沒式光刻機面世(1)

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第一六六七章 浸沒式刻機面世

“恭喜鄧院長、錢所長,我代表京城半導集團獎勵浸沒式刻機研發團隊1000萬元,所有人晉陞1級工資,推薦錢所長申請工程院院士。”

啪啪……

6月17日,孫健在朱俊松、喻學強、魏建國、錢國培、歐明、陳偉長、夏季常等人的陪同下,來到京城半導集團(BSEC)刻機研究院會議室,笑容滿面的會見院長鄧國輝和所長錢富強領導的浸沒式刻機研發團隊的147名人員。

眾人喜笑開,等待這一天已經4年了。

原常務副總經理李昌傑擔任PGCA半導公司中方總經理後,副總經理錢國培擔任常務副總經理。

BSEC是淘寶控公司控的高科技上市公司,淘寶控(京城)公司總經理朱俊松和副總經理喻學強擔任BSEC的董事。

193n長的世界學難題困擾了刻機行業近10年,為了攻克這道難題,GCA選擇了技最複雜的EUV(13.5n技路線,同時也沒有放棄157n路線;Nikon、Canon、SVG和AS選擇157n路線。

1999年7月,BSEC研究院院長鄧國輝院士和刻機學研究所所長錢富強研究員率領源研究所的147名研發人員,在孫健的“點撥”下,經過近3年的潛心研究,終於研製功浸沒式刻系統技,ArF激的193n源通過純凈水的折,得到了波長134n源,解決了業界遇到的193n長的世界級難題,並生產了一台65n程工藝的浸沒式試驗機,避免刺激國,秘而不宣!

孫健當時告訴大家,因試驗機所用的學系統是委託CarlZeiss AG生產的,沒有自主知識產權,因瓦森納協定的限制,極有可能被封鎖,等自己研製的學系統符合要求後,再申請公司發明專利。

當時只能委屈錢富強和147名研發人員。

“多謝董事長!”

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