AS採用兩條走路。

AS擁有全球第二款雙工作台系統，技實力僅次於GCA和Nikon，一旦研發功134n長的浸沒式刻機，技實力就會超過Nikon。

雖然浸式刻機的構思非常巧妙，但同EUC刻機相比，從工程角度看，並不難完，

鄧國輝和錢富強都擔心AS趕在BSEC的前面發布研發功浸沒式刻機，但一想到孫董事長旗下公司是AS的第二大東，就放下心來。

5月28日，GCA EUV刻機公司對外公開宣布，經過二年多的潛心研發，EUV刻機的核心部件EUV激研製功，並通過專家組的鑒定，並申請了國際發明專利，並向展示了一台EUV激和一台EUV刻機原型機。

EUV激獲取EUV源的辦法是將二氧化碳激照在錫等靶材上，激發出13.5n子，作為刻機源。

EUV激和EUV刻機原型機在全球引起極大的轟，阻礙全球半導產業發展的技瓶頸被國科學家攻克。

GCA同時宣布，GCA EUV刻機的量產還需要很長的時間。

得到消息的魏建國、鄧國輝和錢富強都知道BSEC公開推出浸沒式刻機不遠了。

工程院院士候選人不理個人申請，需要通過院士或有關學團提名，也可以同時通過以上兩種渠道提名。

錢富強研究員在全球頂尖刻機期刊上發表了30多篇專業論文，在全球刻機源行業有極高的威，主持研發功的浸沒式刻機是全球首創，國際領先技，有百億元的市場價值。

京城半導集團擁有4名刻機專業頂尖的院士。

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