2月4日，北京中科院計算所實驗室

沈玉茹盯着電子顯微鏡屏幕，眼睛又酸又。

屏幕上顯示的是龍盤存儲芯片的截面圖——硅襯底上，是麻麻的晶管結構。

“寫壽命測試結果。”技員遞過報告，“1024次，又失敗了。離一萬次的目標差得太遠。”

沈玉茹接過報告，快速瀏覽數據。問題出在浮柵結構上——電子注和除過程中，氧化層會逐漸損壞，導致芯片失效。

“陳總說的雙層浮柵……”喃喃自語。

“日本東芝的論文我們拿到了。”另一個技員抱着一摞資料進來，“他們確實在研發類似結構，但數據很，只說‘能顯着提高耐久’。”

沈玉茹快速翻閱論文。

日文夾雜着英文，專業語很多，但還是看懂了關鍵部分——雙層浮柵可以分散電場應力，減氧化層損傷。

“重新設計。”站起，走到白板前，“浮柵分上下兩層，中間加隔離氧化層。注電降低30%，除時間延長50%——試試看。”

“可是沈工，這樣容量會下降……”

“先解決壽命問題，再優化容量。”沈玉茹斬釘截鐵，“沒有壽命，容量再大也沒用。分組，重新計算參數，今晚必須出新的設計圖。”

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