寬敞明亮的機房，首台逐極紫外刻機，被放置在中心位置，是全場毫無疑問的焦點。前方牆上的大屏幕，最上面掛着個紅橫幅。

寫有一行標語。

“預祝全系統首次鏈路功能驗證流片圓滿功”

而現場除總設計徐銘，賀鵬濤與丁順安兩位院士，和微電子裝備項目科研人員外，還包括華天科技公司，科技部領導以及多位院士專家。今天全部聚集在這裡，只為共同見證國家高端芯片製造的崛起。

其中很多人，都是項目某環節參與者。

最終的結果如何，對他們來說，稱得上是與有榮焉。

心中都憋着一口氣。

但像科學院院長餘高遠，則完全把自己，放在觀眾的席位上，基本全程保持沉默，很參與發言。

把本次驗證的主導權，悉數給總設計師徐銘。

僅在心中希冀驗證圓滿功。

當視線重新回到徐銘上，他已經手接過，賀院遞過來的逐”最新檢測數據，隨即垂下目神認真的仔細查看。

從海外新思公司，與阿斯麥半導設備，共同發出公告，宣布將在明年正式推出，全新的極紫外刻機和配套eda算法工，到現在已過去三個多月時間。

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