對於一枚芯片來說，其製造原理全世界都知道。

用通俗簡單的話來說，無非就是先設計規劃好電路圖，然後在沙子中提取高純度硅晶，切為晶圓，再鍍和刻蝕，最終在手指頭大小的面積上，集百億個晶管，並切割為單個芯片。

但這一整套流程中，涉及到的技難題和尖端設備才是關鍵核心。

比如單晶硅的提純需要單晶硅生長爐，芯片電路的設計需要EDA件，晶管的雕刻需要刻機等等。

而在一系列的技與設備難題中，要說難度最大的，那就是刻機了。

越是尖端的芯片，對於刻進程的要求就越高，也意味着對於刻機的要求就越高。

尤其是到了7納米級別的芯片，能刻這個進程的，只有荷蘭阿斯麥AS公司的EUV紫外刻機才能做到。

而EUV紫外刻機的製造，技難度就不用多說了。

對於非西方利益集團的國家來說，只要你還需要使用芯片，那麼刻機就是無論如何都繞不過去的一道門檻。

尤其是米國，藉此掌控整個半導領域，控制其他國家的發展更是百試不靈。

但現在，在這場產品發布會上，卻突然冒出了一項不需要刻機就能夠製備芯片的技？

看着大屏幕上展示出來的技，發布會現場近乎沸騰了起來。

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