無可非議！

尼康公司CEO森佳照明也明白，一旦BSEC、GCA和AS的45n程的浸潤式刻機問世，DSP-100乾式刻機就沒有競爭優勢了。

“恭喜孫先生，請問貴公司的3360i定價多？”

阿特向阿爾特曼打出OK的手勢，兩人原以為BSEC會晚幾個月研發功45n程浸沒式刻機，也無所謂，先開工基建，明年再安裝設備。

在GCA和BSEC之間，阿特和阿爾特曼會選擇GCA刻機；在BSEC和Nikon之間，他們會選擇BSEC刻機，這裡面有公司利益考量，還有國家利益在裡面；在國家利益和公司利益之間選擇，他們會選擇公司利益，實現東利益最大化。

國半導行業都知道，日本為了打敗國，重新為全球半導產業的老大，由日本通商產業省牽頭，政府出錢，日本各大科研院所和半導公司聯合，在國家層面，制定了日本半導產業長中短期發展規劃，先後立了半導前沿技聯盟（SELETE）、日本超先進電子技協會（ASET）、下一代半導曝工藝基礎技開發（RAI）和極紫外刻系統開發協會（EUVA），舉國之力，從1998年就啟了EUV技研究項目，希趕在國GCA EUV公司之前，實現EUV刻技的商業化。

在EUV LLC聯盟通過兩年的研究，驗證EUV刻機的技可行後，2002年1月，由GCA出資5億元，立一家GCA EUV刻機份有限責任公司，邀請Intel、A、IBHP、TI、托羅拉、蔡司公司、Cyr、台積電和三星等二十多家公司參加，籌資50億元，共同研發EUV技。

EUV LLC聯盟中除了GCA、Intel和牽頭的國能源部以外，還有托羅拉、A、IB以及能源部下屬三大國家實驗室：勞倫斯利弗莫爾國家實驗室、桑迪亞國家實驗室和勞倫斯伯克利實驗室。

國半導行業都不願意看到由Nikon和Canon主導的EUV研究走在GCA EUV的前面。

“阿特先生，3360i的研發本要高一些，初步定價2000萬元，阿特先生和阿爾特曼先生是老朋友，我做主打八五折！”

刻機是個高投高收益的行業，誰的技領先，誰就能拿到高額利潤。

“多謝孫先生！”

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