常務副總裁原田弘樹建議公司兩條走路。

吉田一郎支持森佳照明等人的意見，抓時間研發45n程乾式刻機。

去年5月，Nikon研製的NSR-S308F乾式刻機量產，配備尼康公司自研的Polano偏振照明系統後，能夠滿足65n程的刻需求。

SELETE購買了2台。

“魏總，等DSP-100在市場上發酵一周後，我們再向外公布3360i，7月下旬量產，開始預訂。”

按照浸潤理論，採用浸潤式技，193n長可以穿純凈水，最高實現22n度，浸潤式技還可以獲得更好的景深。不需要真空或氮氣條件，不需要更換掩，不需要更換刻膠。

蔡司公司為2250i設計了新的鏡，方便更換鏡頭，發明了浸潤罩(iersion hood)技，將一片很小的水面保持在鏡頭下方，上下接而不會溢出。由於照會影響水的溫度，需要保持流水，同時水流控制還要避免旋渦和水泡。

BSEC刻機研究院研究了雜質的來源，設法將原來的4000個缺陷減為零。將鏡頭和晶圓浸水之前，先用表面活浸泡，減沾染。在晶圓的邊緣設置封環（seal ring)，避免水溢出，消除漩渦，將雜質帶走，降低缺陷率。另一個方法是通過曝流程的優化，大幅度降低不可復原的缺陷數量。

浸潤式技在曝時需要將鏡頭和晶圓曝區域浸水中，量測時卻需要晶圓上沒有水。雙工作台系統不將量測和曝兩道工序分開，還將乾式量測和浸潤曝分開，幾乎是為浸潤式刻機量定做的。

BSEC刻機自化研究所先後為2250i和3360i升級了磁懸浮式雙工作台系統。

BSEC在研發功TWINSCAN BNT:2250i後，向中國專利局和世界專利局同時申請了9項技專利，其中2項核心技專利。

157n波的乾式刻機對環境要求相對簡單，不需要考慮介質的純度、流、對刻膠和晶圓的影響等相關問題，工藝控制相對容易，設備的維護和保養也相對簡單一些。

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