“157n式刻機到波長的限制，製程工藝只能達到75n不如BSEC浸潤式刻機的65n而且在提高製程工藝方面的難度較大，難以滿足晶圓廠家對先進製程工藝的要求；157納米技還有一個先天的困難，由於波易被吸收，需要氟化鈣鏡頭，氟化鈣是一種新型鏡頭材料，製作難度大，每次結晶需要3個月時間，並且質量難以控制，價格高昂。我建議公司立即開始研發浸潤式刻機，雖然同BSEC和GCA相比已經晚了，但極有可能趕上被純凈水介質核心技專利困擾的AS。”

7月18日，全球第一條65n導生產線在PGCA量產的消息傳到尼康半導公司，上下震很大，雖然尼康157n式刻機隨時可以量產，但由於製程工藝低於BSEC浸沒式刻機，到如今沒有晶圓廠家願意訂購，AS浸沒式刻機雖然到專利困擾沒有量產，但GCA浸沒式刻機已經量產，三家主流刻機公司走134n沒式刻機路線，Nikon和Canon等兩家繼續走157n式刻機路線，但市場已經給出了答案，PGCA、TTFAB（曙東芝）、台聯電、Intel和A訂購了5條BSEC浸沒式刻機構的導生產線，台積電預定了一條AS浸沒式刻機構的導生產線，同為日本半導協會會員的晶圓公司瑞薩科技和爾必達如今還於觀之中。

以前支持Nikon研發157n式刻機的芯片龍頭Intel見到BSEC浸潤式刻機問世後，放棄了對157n式刻機的支持，對花費10多億元巨資研發157n式刻機的Nikon和Canon造重大打擊。

尼康半導公司高層爭議很大，其中以尼康國研究公司的總裁兼CEO托馬斯·諾利克的反對意見最大。

尼康半導公司如今於技發展的十字路口。

力推157n式刻機的前會長，如今的顧問吉田一郎召集現任會長兼CEO森佳照明、常務副總裁原田弘樹、副總裁兼尼康半導研究所所長小川郁子、財務副總裁梅·蘭布林和托馬斯·諾利克等高層到公司總部商議對策。

托馬斯·諾利克首先開炮，建議公司立即開始研發浸潤式刻機，還有希趕上主流路線。

吉田一郎在尼康半導公司擔任過社長、會長（董事長）兼CEO等職務，在半導刻機領域有着深厚的造詣和富的經驗，對尼康半導業務的發展有着深遠的影響，雖然退居二線，但在公司還有巨大的權威。

尼康國研究公司是尼康半導公司的子公司，主要從事半導刻機相關的研究和開發公司。

“雖然如今157n式刻機的製程工藝低於134n沒式刻機，但乾式刻環境相對簡單，不需要考慮介質的純度、流、對刻膠和晶圓的影響等相關問題，工藝控制相對容易，設備的維護和保養也相對簡單一些；公司在157n式刻路線上投了近10億元巨資，掌握了核心技，領先全球，雖然暫時於劣勢，但我們可以沿着既定的技路線穩步推進，只要能率先研發功45n程工藝的乾式刻機，就能一舉扭轉我們被的現狀，繼續引領刻機的發展方向；我們現在重新投巨資開始研發浸沒式刻機，除了一直追趕BSEC和AS外，也將面臨BSEC擁有的多項核心技專利限制，如浸沒式雙工作台系統核心技專利，流理系統核心技專利、折返式投影核心技專利、純凈水介質核心專利，要是BSEC不給我們授權純凈水介質核心專利，請問諾利克先生如何解決純凈水介質核心專利難題？”

尼康半導公司會長兼CEO森佳照明在尼康公司擁有超過25年的經驗，在國、歐洲和韓國的銷售和營銷方面擔任過高層，深得前會長吉田一郎的賞識。

“會長，我聽說，AS如今等待BSEC的國際純凈水介質核心專利通過後授權，既然BSEC同意授權AS，就會授權我們，BSEC當年拿到雙工作台系統的國際專利後也授權給了我們。”