“各位董事，要是EUV LLC聯盟在未來二年從理論上證明研製EUV刻機的技可行，將這個寶貴的機會和重任給GCA，公司不可能放棄，但投資巨大，半導產業陷衰退又不可避免，避免兩線作戰，造資金捉襟見肘，我們只能將重心放在EUV刻機的研製上。我建議艾德里安先生和湯普森院長出面找SVG商談，聯合開發157n。”

孫健估計，EUV LLC聯盟在明年底前就能證明製造EUV刻機在理論上的可行，但EUV刻機量產最起碼還需要10年，如今也不能告訴大家，到時由BSEC免費提供193n沒式刻機專利技給GCA。

BSEC是在GCA擁有的第一代193nrF準分子激專利技基礎上研發功193n沒式刻機技，核心還是GCA擁有技專利的193n分子激，GCA研製的第二代、第三代193n分子激也授權BSEC技；雖然浸沒式刻技屬於BSEC重新開發的公司發明專利，但按照當初簽訂的專利技授權轉讓合同，要免費授權給GCA使用，就像GCA去年研發功的第三代（12英寸晶圓、90n程工藝）磁懸浮式雙工作台系統，專利還是屬於BSEC，授權GCA免費使用。

1.5u800n程工藝的刻機配套6英寸晶圓，500n180n程工藝刻機配套8英寸晶圓，90n下的都配套12英寸晶圓，相配套的磁懸浮工作台系統分別稱為第一代、第二代、第三代，一代中還有子代，核心技還是BSEC擁有公司發明專利的第一代。

GCA研發功第二代、第三代磁懸浮式雙工作台系統通過夏季常院士領導的刻機自化研究所改進後，青出於藍而勝於藍，返還GCA使用，授權其他刻機公司升級。

BSEC刻機自化研究所將來研製為12英寸晶圓、65n程工藝浸沒式刻機配套的磁懸浮式雙工作台系統將稱為第四代，10n為第五代、7n為第六代……BSEC擁有的磁懸浮式雙工作台系統的公司發明專利不會失效。

兩家公司雖然都是孫健控，手背手心都是，但嚴格按照兩國法律辦事，不會留下被人攻擊的把柄。

以GCA如今的江湖地位、財力和技實力，願意同SVG聯合開發157n，對雙方都有利，如何說服Papken同意就不是孫健關心的事了。

“好的，董事長！”

“好的，董事長！”

孫董事長同意兩條走路，艾德里安和湯普森放心了，他倆有信心說服Papken。

其他董事也出笑容。

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