EUV LLC聯盟的研發費用出資比例中，牽頭的國能源部出30%，Intel和GCA各出20%，torola、IBIT、ADHP各出4%，cron和Cyr等其他33家科技企業和研究機構共出10%，今後的權利同出資比例相同。

GCA需要出資的20%中，以前的EUV研究果折算15%。

GCA這些年為了研發EUV投資了1.5億元，取得了不有關EUV的研究果，但離功還有很遠的距離，以GCA一家之力很難完，湯普森院長不得不放棄，出面邀請國能源部和Intel等刻機和半導產業的同行，國能源部牽頭立了EUV LLC。

國能源部的三家國家實驗室、Intel和Cyr等公司這些年也在研發EUV，但遠遠落後在GCA的後面，湯普森院士眾所歸，了EUV LLC聯盟的CTO。

作為GCA的法人兼董事長，孫健樂見其。

刻機公司遲遲不能攻克193n長的世界級難題，65n程工藝刻機遲遲見不到影，GCA和Nikon着急，但最着急的是財大氣的Intel和A，沒有下一代刻機，Intel和A研發的下一代CPU只能為研發果，不能變產品，不能上市，消費者將失去購買慾，公司的銷售和利潤銳減，投資者用腳投票，價下跌，市值減，研發費用減，研發阻，會發生一系列連鎖反應。

前世，由於遲遲不能攻克193n長的世界級難題，刻機製程工藝一直停留在90n爾定律失效！直到2007年左右，AS生產的世界第一台193n長的浸沒式刻機問世，一舉突破了90n程工藝，65n45n32n28n20n14n10n…製程工藝越來越細，製造難度越來越大。

重生前，EUV刻機已經誕生，台積電已經宣布能生產7n程工藝的芯片，全球刻機公司就剩下AS、Nikon、Canon和滬海微電子（SE）等四家。

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“各位董事都知道，業界對下一代刻機的發展提出了兩條技路線，據我所知，157n刻技同樣遭遇到了來自刻機鏡的巨大挑戰，不是短時間能克服的；即使EUV LLC聯盟在5年研發功EUV，但EUV刻機量產還有很長的路要走，業界悲觀預測，5年看不到65n程工藝刻機問世，芯片的升級換代將會陷停滯，到國經濟下和65n程工藝技研發阻的雙重影響，半導產業的快速發展也不可能繼續延續。”

孫健一臉嚴肅，不是信口雌黃，也不是指點江山，準確預測刻機產業和半導產業未來的發展趨勢，避免GCA陷被，繼續樹立GCA一把手的權威形象。

打算關門的GCA能為全球第一大刻機公司，孫董事長的貢獻第一，這是現場眾董事的心聲。

。損俱損一，榮俱榮一業產導半和業產機刻