“董事長，經過近2年的聯合攻關，研究證實，我們用去離子水等手段，保持水的潔凈度和溫度，使其不起氣泡，用去離子水作為曝介質，雖然源波長還是用原來的193n但通過去離子水的折，能使進阻的波長明顯小，使用浸沒式技突破193n長可行，我們如今遇到的最大難題是我們自己製造的學鏡頭不能滿足突破193n長刻學件的技要求。”

浸沒式刻技聯合攻關組組長陳偉長院士給孫健彙報浸沒式刻技的最新進展，總經理魏建國、院長鄧國輝院士、副院長歐民院士、聯合攻關組副組長夏季常院士和源研究所所長錢富強研究員也在場。

1994年，鍾德偉教授和夏季常教授憑藉研究功全球獨一無二的刻機懸浮式雙工作台系統技項目果，晉陞工程院院士。

1995年，陳偉長研究員憑藉研究功1u程工藝的學系統技項目果，歐民研究院憑藉研製功6英寸晶圓技項目果，同一批晉陞工程院院士。

同年，錢富強副研究員在自主製造arf準分子激的工作中做出重大貢獻，晉陞研究員，擔任刻機源研究所所長。

鄧國輝院士不再兼任刻機源研究所所長，集中力主持刻機半導研究院的整研究工作。

浸沒式刻技在bsec屬於嚴格保的研究項目，屬於在研項目的第一號，由刻機學研究所、刻機源研究所和刻機自化研究所相關研究人員和高級技師組，聯合攻關組由陳偉長院士和夏季常院士領銜，所有參與者同bsec簽訂了保協定。

“陳副院長，據我所知，雖然蔡氏公司專門為gca和as研發功的starlith 900，是世界上第一個批量生產的 193n長刻學件，也是第一個可以實現100n下分辨率的系統，但浸沒式學鏡頭與眾不同，蔡司公司、尼康公司和佳能公司如今都還沒有開始研製，只能我們自己研製和生產，我們也不需要太過着急，一步步來，從零部件到總裝等方面夯實基礎，聯合攻關組需要購買的機設備和材料，可以直接向魏總申報，陳副院長看上的高端專業人才，給人事部組織招聘和引進。”

控gca，作為as、蔡司耶拿公司、carlzeiss ag的第二大東，有資格第一時間知道這些公司的最新科技果，但今年初剛剛面世的starlith 900也在瓦森納協定出口管制產品和技目錄上，不能出口國。

euv刻機也不是十年左右就能研製功的，孫健如今也不慌了，打牢基礎，即使bsec三年研製功全球第一台浸沒式刻機，他也打算雪藏，等193n長遇到突破65n程工藝的世界難題時，再將這項突破專利技推出，一鳴驚人！

不要挑戰國是世界高新技的領導者和引領者的地位！

華為和中興前世的教訓太深刻了！

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