gca當時投研發euv技項目的3000萬元經費，可以收購as40%的權，不是一筆小數目！

gca當時賬上的現金流只剩下300多萬元，公司要花錢的地方多的是。

孫健前世在互聯網上看過不有關as euv刻機的文章，作者紛紛嘆研發和生產euv刻機之難難於上青天，被稱為外星人的科技水準，是迄今為止人類科技領域所能達到的最尖端技，沒有之一。

為了打破封鎖，投巨資，舉國之力也沒有看見果。

前世90年代末，乾式193n長刻機遇到了65n程工藝的極限，再往下就寸步難行，如何40n程工藝？為阻擋所有刻機等半導廠商的世界難題，科學家和產業界提出了各種超越193n長的方案，其中包括157nf2激，電子束投(epl)，離子投(ipl)、euv(13.5n和x等。

相對而言，157nf2激的技難度稍低，不公司開始下注157nf2激，其中尼康和svg在這個技路線走的最遠，是最接近商業化量產的兩家公司。

幾年後，as收購了svg，也擁有了157n2激技，又砸下數億元進行研發，此外as也還嘗試開發euv刻機。

財大氣的英特爾一開始就傾向於激進的euv(13.5n方案，希徹底解決刻機的波長世界難題，集中全球頂尖科技英一起愚公移山，他們說服對高科技開明的克林頓閣，發起立了euv llc（euv有限責任公司）。

euv llc由英特爾和國能源部牽頭，集中了當時如日中天的托羅拉、iba，以及有盛譽的國三大國家實驗室：勞倫斯利弗莫爾實驗室、勞倫斯伯克利實驗室和桑迪亞國家實驗室，集中數百位世界頂尖科學家，投資2億元研發經費，從理論上驗證 euv可能存在的技問題。

英特爾當時打算邀請刻機行業第一、第二位的nikon和as加euv llc，但國政府擔心最前沿的刻機技落外國公司手中，反對nikon和as加。

as為了表現誠意，同意在國建立一所工廠和一個研發中心，以此滿足所有國本土的產能需求，另外，還保證55%的零部件均從國供應商採購，並接定期審查，做出多項讓步後，最後功加euv llc，能夠其基礎研究果，nikon卻沒有機會加，失去了同as競爭的機會。

幾年之後，終於論證了euv的可行，於是euv llc的使命完，公司解散，各個員踏上獨自研發之路。

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