萬事開頭難！

bsec刻機工作台研究所如今又研製功適合5英寸晶圓和1u程工藝、6英寸晶圓和1u程工藝、6英寸和800n程工藝的磁懸浮式雙工作台系統。

經過6個多月的等待，bsec從國家專利局拿到了5英寸晶圓和1.5u程工藝刻機的公司發明專利證書。

bsec為華越半導公司生產的一條5英寸晶圓和1.5u程工藝半導生產線正在有序的生產之中。

5英寸晶圓和1.5u程工藝刻機的生產技還沒有拿到世界專利局批准的公司發明專利。

按照西方人的辦事風格，沒有18個月是拿不到的。

bsec又在國專利局和世界專利局分別提了適合5英寸晶圓和1u程工藝、6英寸晶圓和1u程工藝、6英寸和800n程、8英寸和500n程工藝、8英寸和350n程工藝的磁懸浮式雙工作台系統公司發明專利的申請。

前三項是bsec研發功的公司發明專利技，後二項是gca研發功的公司發明專利技。

按照雙方簽訂的專利技轉讓協定，gca只有適合8英寸和500n程工藝、8英寸和350n程工藝的磁懸浮式雙工作台系統專利技使用權，沒有專利技轉讓權。

在arfi準分子激研發功之前，bsec刻機工作台研究所繼續研發適合8英寸和500n程工藝、8英寸和350n程工藝的磁懸浮式雙工作台系統，與gca研發功的雙工作台系統進行對比，取長補短，為研發適應浸沒式刻系統的磁懸浮式雙工作台系統儲備技。

據九二年修訂的專利法，國的發明專利保護期限變了20年，實用新型專利權和外觀設計專利權的期限為10年，均自申請之日起計算。

只要重新申請的新發明專利比前一個發明專利更先進，發明專利的保護期限可以一直延長下去，形事實上的技壟斷，就像windos系統！

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