“同志們辛苦了，我代表公司獎勵項目組20萬元！”

二十七日下午，接到魏建國的電話，刻機電源廠製造功第一台arf準分子激樣機，孫健第二天上午乘飛機來到京城，接見arf準分子激樣機項目研製和生產項目部員代表。

十月中旬，夏季常團隊研製功5英寸晶圓、1u程工藝的磁懸浮式雙工作台系統。

gca刻機半導研究院得到磁懸浮式雙工作台系統的專利技，為了早日攻克8英寸晶圓、250n懸浮式雙工作台系統，湯普森院長集中全院相關科研人員聯手攻關，二個月的時間就先後研製功5英寸晶圓、1u程工藝和6英寸晶圓、800n程工藝的磁懸浮式雙工作台系統，如今正在研製8英寸晶圓、500n程工藝的的磁懸浮式雙工作台系統。

按照如今的進程，明年初就能得到好消息。

按照雙方簽訂的專利技轉讓協定，gca要將5英寸晶圓、1u程工藝和6英寸晶圓、800n程工藝的磁懸浮式雙工作台系統技都轉給bsec。

湯普森給總裁余建國，余建國給鄧國輝。

雖然可以節約bsec雙工作台研究所不時間和投，但夏季常團隊將來還要研製浸沒式刻系統相對應的磁懸浮式雙工作台，孫健建議夏季常帶領研究員們自己研製一遍。

一步步研製的過程就是科技人員能力和技提升的過程。

十一月初，鄧國輝團隊消化吸收了arf準分子激的專利技，轉生產樣機階段。

bsec撥款2000萬元，刻機源研究所、刻機學系統研究所和刻機工作研究所如今正在研製arfi準分子激和浸沒式刻系統。

啪啪……

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