下午一點半，小會議室里，窗上的霧己經散了，外面約能看到廠區水泥路上的幾棵樹。

大會議桌上，專家組坐一側，廠方、人事、財務、市經委、外貿公司的人坐另一側，中間隔着一排茶杯。

剛才專家組部己經開了一個小會，討論了兩個小時。現在，是“宣讀意見”的時刻。

“同志們，我們時間有限，我就長話短說。”劉教授打開一份打印好的紙，左上角的標題是“省電子工業廳技評審意見（討論稿）”，下面是一堆麻麻的小字。

“我們這次來江海電子件廠，對你們的二號線——也就是2μm CMOS工藝生產線，進行了實地查看和技評估。總結論是：在目前條件下，該線己經實現了初步工藝修復，備進行修復級試驗示範的基礎。”

會議室里，有人悄悄吐出一口長氣。

姚慶東手指輕輕握，又很快恢復平穩，臉上還維持着“沉穩”。

趙書記側頭看了他一眼，眼神里閃過一笑意。

劉教授繼續往下念：

“一，工藝基礎。該生產線雖然設備陳舊，但關鍵設備維護到位，真空系統進行了系統檢修，配套真空測量儀錶經校準後能夠滿足目前2μm工藝要求。”

“二，工藝改進。廠方在原設計院提供的工藝配方基礎上，結合自條件，開展了多組工藝試驗，初步確定了新的工藝窗口（D4配方），產品電參數達到設計指標，良率自去年十月份的20—30%，提升到目前的60%以上，近期一批達到約65%。”

他說到這兒，抬頭看了一圈：“這個趨勢，我們認為是真實的，不是偶然。”

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