次日清晨，楚千瀾驅車抵達深藍半導。

二號生產樓的45納米刻設備正有條不紊地運轉，淡紫的極紫外束在晶圓表面勾勒出細紋路，而隔壁的28納米刻產線則被安保守住了出口，空氣中瀰漫著張而肅穆的氣息。

王世傑、張北早己等候在觀察窗前，臉上難掩興與忐忑。

看到楚千瀾走來，兩人立刻迎了上去。

“楚總，設備己完最後校準，源功率穩定在±0.2%，工作台定位度達±0.001微米，各項參數均優於設計標準。”張北遞上數據平板，聲音帶着抑制不住的抖。

楚千瀾目掃過屏幕上跳的實時數據，微微頷首：“開始流片吧，重點監測良率與穩定。”

王世傑抬手示意，技人員立即按下啟按鈕。28納米刻設備發出低沉的嗡鳴，傳送臂準抓取硅晶圓，緩緩送預理模塊。

極紫外源投出比45納米設備更細的束，在晶圓表面刻畫出複雜的電路紋路，每一道線條都銳利如刀，誤差控制在納米級。

觀察窗前，眾人屏息凝視。屏幕上的流片進度條緩慢推進，塗膠、曝、顯影、蝕刻等工序一氣呵。當第一片晶圓完流片，被送檢測設備時，整個車間雀無聲。

“線寬均勻度誤差±0.002微米，符合設計標準！”檢測工程師高聲彙報，聲音打破了死寂，“關鍵電路無橋連、無鋸齒，刻質量完全達標！”

王世傑長舒一口氣，臉上出欣的笑容：“按這個進度，首批100片晶圓將在兩小時完生產，良率初步預估能穩定在92%以上。”

楚千瀾凝視着屏幕上平的參數曲線，眸中閃過一讚許：“92%的良率，超出預期。後續28納米製程的芯片，要轉移到這條新產線上生產。”

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