王世傑聞言，首接翻開前的藍封面報告：“楚總，各位，深藍半導自6月末完180納米芯片產線調試後，便開始投生產。主要產品就是電源管理芯片，偶爾會接到國企科研單位的訂單。

整個深藍半導此時擁有250納米，180納米，65納米刻機各一台，65納米刻機會在年前完調試。另外，公司己經開始籌備刻膠，晶圓，特種氣研發團隊。

到上個月末，累計實現營收1.9億，因為兄弟單位的照顧，利潤達到8600萬。公司現在外債18.5億，賬戶資金大概2.9億。”

他的話音落下，曲峰便皺起眉頭，“按照楚總的計劃，今年年末要開啟芯片自主生產，星源探索研發的芯片都是45納米製程，你們65納米刻機恐怕無法完生產吧？”

他到沒有說購買45納米刻機，那種先進的刻機最近才研發出來，海外芯片巨頭都很難買到，更不要說被針對的龍國公司了。

王世傑毫沒有慌張，“深藍半導對多重曝技有新改進，己經能使用180納米刻機生產90納米芯片。等65納米刻機完調試，就準備用這項技試生產45納米芯片。從理論上來說，這是可以實現的。”

曲峰語氣帶着幾分審慎：“多重曝技在實際生產中會面臨套刻度、良率控制等問題。星源探索的45nm存儲芯片對刻度要求極高，線寬誤差不能超過±0.005微米，你們的改進技能穩定達到這個標準嗎？”

王世傑一臉自信：“曲總放心，我們用180nm刻機做過三90nm芯片試產，套刻度穩定在±0.008微米，良率能達到89%。後續會繼續針對65nm刻機的多重曝優化，預計能將誤差到±0.004微米，完全滿足45nm芯片的生產要求。”

楚千瀾抬手打斷兩人的技探討：“65納米刻機完調試後，先不要拆解，留出一個月驗證多重曝技，順便將星源探索完設計的芯片生產出一些樣品。”

他話鋒一轉，看向星源探索曲峰：“曲總，你介紹一下星源探索的況吧！”

曲峰聞言，放下手中的筆，將前的文件給每個人都分了一本：“楚總，各位同僚，星源探索2009年核心聚焦三大板塊，芯片研發、EDA工與鋰電池技。”

“基於星象指令集，己經展開多類核心芯片設計：一是45nm存儲芯片，架構驗證通過，待深藍半導產線就緒後流片；二是180納米電源管理芯片，己在深藍半導實現量產。”

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