次日清晨六點，楚千瀾帶着周明遠、鍾長風驅車前往深藍半導。

幾人剛走進車間，就看到王世傑穿着潔凈服站在刻區外等候，臉上帶着熬夜後的疲憊，卻難掩興。

見到楚千瀾一行人，王世傑立刻迎上來，手裡還攥着一份流片準備報告。

“楚總！所有設備都調試到最佳狀態了！掩模版己經完製作，凌晨用測試硅片跑了三模擬流片，刻膠塗覆均勻度穩定在98.6%，離子注機的束流誤差控制在1.0%以，星象指令集態模塊的線寬誤差更是到了±0.009微米，完全滿足180nm製程要求！”

楚千瀾接過報告，目快速掃過關鍵參數，“準備得很充分，沒白費你們熬夜的功夫。流片流程按計劃推進，重點盯刻和蝕刻環節，有任何異常第一時間反饋。”

王世傑重重點頭，側帶着幾人走向潔凈室，“張北團隊己經在刻區待命，學系統的激功率、曝時間都按星途EDA導出的參數校準完畢，就等您一聲令下啟。”

穿過消殺區域，幾人走進刻區。巨大的刻機己預熱完畢，只等程序啟。

王世傑將提前製作好的掩模版安置好，隨後看向了楚千瀾。

“按流程啟。”楚千瀾點頭示意。

王世傑按下啟按鈕，機械臂準抓起晶圓，緩緩送刻腔室。屏幕上，電路圖案在晶圓表面逐步顯影。

“楚總，您看這裡！”周明遠忽然指着屏幕角落的放大圖，語氣帶着抑制不住的興，“星途EDA導出的刻參數與實際顯影效果完全吻合，態模塊的布線拐角沒有出現任何刺！”

楚千瀾俯查看，屏幕上的電路圖案清晰銳利，電源模塊與運算單元的連接線路平流暢，沒有一因刻偏差導致的信號叉。

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